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碳化硅/碳化钽涂层设备及工艺
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专业从事碳化硅气相沉积、碳化钽气相沉积设备制造；工装结构图纸设计；CVD镀膜工艺研发，涂层纯度6N以上，涂层均匀性90%，工艺速率2-100um/h可选工艺；基材镀膜碳化硅涂层，碳化钽涂层代加工等
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